डॉ. कृष्णा वलेटी

“CAPVD कोटिंग युक्त कार्बाइड टूल्स का उपयोग करके Ni-आधारित सुपरएलॉय का मशीनिंग” N Tandekar, A Kumar, K Valleti, Materials Today Communications 39 (2024) 109101

“एनील्ड NiB कोटिंग्स की कठोरता में इंडेंटेशन आकार प्रभाव” A Soni, A Kumaraswamy, B Praveen Kumar, N P Wasekar, K Valleti, MRS Communications, 1-8 (2024)

“TiAlN-कोटेड ड्रिल बिट्स के मशीनिंग प्रदर्शन पर सब्सट्रेट बायस का प्रभाव” Nitin Tandekar, Pooja Miryalkar, L. Rama Krishna, Krishna Valleti, Materials and Manufacturing Process 39 (2024) 518

“Ti-6Al-4V की फेस मिलिंग में CAPVD-कोटेड कार्बाइड टूल्स के मशीनिंग प्रदर्शन का मूल्यांकन” Aditya Kumar, Nitin Tandekar, A. Venu Gopal, Krishna Valleti, Ceramics International, 50 (9) (2024) 16639

“स्टैम्पिंग डाई की सेवा अवधि बढ़ाने में TiCrN/DLC कोटिंग्स की प्रभावशीलता” Krishna Valleti, Pooja Miryalkar, Rama Krishna L, Vacuum 217 (2023) 112534

“फ्लोरीन-डोप्ड टिन ऑक्साइड कोटेड ग्लास सब्सट्रेट पर नैनोक्रिस्टलाइन टाइटेनियम नाइट्राइड पतली फिल्म का कैथोडिक आर्क निक्षेपण: क्रिस्टल संरचनात्मक, सूक्ष्म संरचनात्मक, यांत्रिक, प्रकाशीय एवं विद्युत गुण” Jayaraman Senthil Selvan, Rajeev R. Pillai, Ramasubramanian Kannan, B. Baskar, Krishna Valleti, J. Manonmani, Ceramics International 49 (2023) 37072

“कैथोडिक आर्क PVD कोटेड कार्बाइड बिट्स का उपयोग करके Inconel 718 की ड्रिलिंग में टूल लाइफ का मूल्यांकन” Nitin Tandekar, Ambati Sandeep, Praveen Kumar, Pooja Miryalkar, Krishna Valleti, The International Journal of Advanced Manufacturing Technology 120 (2022) 4821

“कैथोडिक आर्क भौतिक वाष्प निक्षेपण कोटिंग्स का उपयोग करके बायोमास ब्रिकेटिंग मशीन के घटकों के अपघर्षण प्रतिरोध में सुधार: एक तुलनात्मक अध्ययन” Pooja Miryalkar, Sekhar Chavitlo, Nitin Tandekar, and Krishna Valleti, Journal of Vacuum Science & Technology A 39 (2021) 063404

“फेफड़ों के दबाव के मापन के लिए पीजोइलेक्ट्रिक पॉलीविनाइलिडीन फ्लोराइड (PVDF) पॉलिमर/फुलरीन-आधारित सेंसर ऐरे का मोनोलिथिक α, β क्रिस्टल संरचनात्मक डिज़ाइन” N. Manikandan, Krishna Valleti, K. Karupasamy, M. Divagar, Senthil Subramaniam, Sensing and Bio-Sensing Research 32 (2021) 100418

“उच्च गति/शुष्क मशीनिंग अनुप्रयोगों के लिए कम घर्षण गुणांक वाली नैनोकंपोजिट CrAlSiN/ग्रेडिएंट-CrAlSiCN कोटिंग्स” Puneet C, Krishna Valleti, A Venu Gopal, Journal of Manufacturing Science and Engineering 143 (2021) 081013-1

“सांद्रित सौर तापीय ऊर्जा उत्पादन अनुप्रयोगों के लिए Cr-(CrN/TiAlN)m-AlSiN-AlSiO वायु में स्थिर सौर चयनात्मक कोटिंग” Krishna Valleti, Smita G. Rao, Pooja Miryalkar, A. Sandeep, D. Srinivasa Rao, Solar Energy Materials & Solar Cells 215 (2020) 110634

“कैथोडिक आर्क भौतिक वाष्प निक्षेपित TiAlN, TiCrN और n-TiAlN/a-Si3N4 फिल्मों की सूक्ष्म संरचना एवं घिसाव” Manish Roy, S. Saha, and K. Valleti, Defence Science Journal 70 (2020) 656-663

“बिना किसी पश्च-ताप उपचार के 300K पर तैयार सोल-जेल विधि से निर्मित टाइटेनिया (TiO2)–सिलिका (SiO2) मिश्रित पतली फिल्मों के प्रकाशीय एवं यांत्रिक गुण” B. M. Pratima, Krishna Valleti and A. Subrahmanyam, Materials Research Express 6 (2019) 026407

“स्पंदित बायसिंग का बूंद निर्माण तथा बेलनाकार कैथोडिक आर्क द्वारा निर्मित अपरदन-प्रतिरोधी TiN कोटिंग्स के गुणों पर प्रभाव” Krishna Valleti, K. Sai Jyotheender and D. Srinivasa Rao, Tribology Transactions, Volume 62(1) (2019): 88

“उच्च गति मशीनिंग अनुप्रयोगों के लिए CrAlSiN नैनोकंपोजिट पतली फिल्में” Puneet C, Krishna Valleti, A. Venu Gopal & S. V. Joshi, Materials and Manufacturing Processes, Volume 33 Issue 4 (2018): 371

“कैथोडिक आर्क PVD कोटेड ट्विस्ट ड्रिल्स की टूल लाइफ पर सतह की तैयारी का प्रभाव” Puneet C, Krishna Valleti, A. Venu Gopal, Journal of Manufacturing Processes 27 (2017): 233

“कैथोडिक आर्क PVD द्वारा निर्मित TiCrN-आधारित अपरदन-प्रतिरोधी पतली फिल्मों का अध्ययन” Krishna Valleti, Puneet C, Rama Krishna L, and Shrikant V. Joshi, Journal of Vacuum Science & Technology A 34, 041512 (2016)

“ताप संग्रहण तत्वों के लिए कैथोडिक आर्क PVD द्वारा उच्च तापमान स्थिर सौर चयनात्मक कोटिंग्स” Krishna Valleti, D. Murali Krishna, P. Mohan Reddy, Shrikant V. Joshi, Solar Energy Materials and Solar Cells 145 (2016):447

“Ti1−xAlxN कोटिंग्स के यांत्रिक गुणों पर सूक्ष्म संरचना एवं फेज संरचना का प्रभाव” Sai Pramod Pemmasani, Krishna Valleti, Ravi C. Gundakaram, Koteswararao V. Rajulapati, Ramakrishna Mantripragada, Suresh Koppoju, Shrikant V. Joshi, Applied Surface Science 313 (2014): 936

“उच्च तापमान सौर चयनात्मक अनुप्रयोगों के लिए कार्यात्मक बहु-स्तरीय नाइट्राइड कोटिंग्स” Krishna Valleti, D. Murali Krishna, S.V. Joshi, Solar Energy Materials and Solar cells 121 (2014): 14

“इलेक्ट्रॉन माइक्रोस्कोपी एवं मॉड्यूलस मैपिंग द्वारा बहु-स्तरीय नाइट्राइड कोटिंग्स का अभिलक्षणन” Sai Pramod Pemmasani, Koteswararao V. Rajulapati, M. Ramakrishna, Krishna Valleti, Ravi C. Gundakaram, Shrikant V. Joshi, Materials Characterization 81 (2013): 7

“HSS सब्सट्रेट पर बेलनाकार कैथोडिक आर्क भौतिक वाष्प निक्षेपण द्वारा निर्मित CrN पतली फिल्मों के गुणों को प्रभावित करने वाले कारक” Krishna Valleti, C. Rejin, Shrikant V. Joshi, Material Science and Engineering A 545 (2012): 155

“कैथोडिक आर्क द्वारा निक्षेपित TiAlN कोटिंग्स में संरचना-गुणधर्म सहसंबंध” Sai Pramod Pemmasania, Krishna Valleti, M. Ramakrishna, K.V. Rajulapati, Ravi C. Gundakaram, S.V. Joshi, Material Science Forum 702-703 (2012)

“बेलनाकार कैथोडिक आर्क निक्षेपण द्वारा जमा की गई क्रोमियम नाइट्राइड पतली फिल्मों के गुणों पर सब्सट्रेट तापमान एवं बायस वोल्टेज का प्रभाव” Krishna Valleti, A. Jyothirmayi, M. Ramakrishna and S. V. Joshi, Journal of Vacuum Science and Technology A 29 (2011): 051515

“इलेक्ट्रॉन बीम भौतिक वाष्प निक्षेपित यिट्रिया स्थिरीकृत जिरकोनिया कोटिंग्स में प्रसंस्करण–संरचना–गुणधर्म संबंध” D. Srinivasa Rao, Krishna Valleti, S. V. Joshi, G. Ranga Janardhan, Journal of Vacuum science and Technology A 29 (2011): 031501-1

“R C-Mag तकनीक द्वारा कठोर TaN पतली फिल्म निक्षेपण का अध्ययन” Krishna Valleti, Journal of Vacuum Science and Technology A 27 (2009): 626

“DC मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग द्वारा निक्षेपित TaN पतली फिल्मों के चरण-निर्भर यांत्रिक गुणों का अध्ययन: ऑर्थोरोम्बिक Ta4N चरण में अति-कठोरता का मूल्यांकन” Krishna Valleti, A. Subrahmanyam, Shrikant V. Joshi, A. R. Phani, M. Passacantando and S. Santucci. Journal of Physics D: Applied Physics 41 (2008): 045409

“बेलनाकार मैग्नेट्रॉन कैथोड का उपयोग करके कमरे के तापमान पर नैनोक्रिस्टलाइन निकट α-चरण टैंटलम पतली फिल्मों का विकास” Krishna Valleti, A. Subrahmanyam and Shrikant V. Joshi. Surface & Coatings Technology 202 (2008): 3325

“कम तापमान पर DC मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग द्वारा निक्षेपित टैंटलम पतली फिल्मों के भौतिक गुणों पर आर्क दमन का प्रभाव” A. Subrahmanyam, Krishna Valleti, Shrikant V. Joshi, and G. Sundararajan. Journal of Vacuum Science and Technology A 25 (2007): 378

“ट्राइबोलॉजिकल अनुप्रयोगों के लिए स्पंदित DC मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग द्वारा निक्षेपित टैंटलम नाइट्राइड कठोर कोटिंग्स” Aditya Aryasomayajula, Krishna Valleti, Subrahmanyam Aryasomayajula, Deepak G. Bhat. Surface & Coatings Technology 201 (2006): 4401

“रणनीतिक अनुप्रयोगों के लिए कैथोडिक आर्क PVD द्वारा निर्मित पतली फिल्में/कोटिंग्स” – उन्नत रक्षा अनुप्रयोगों हेतु सामग्री एवं प्रक्रियाओं पर अंतर्राष्ट्रीय सम्मेलन (ADMAT), 23 सितंबर – 25 सितंबर 2019, हैदराबाद, भारत।

“TiCrN कोटिंग्स में अपरदन विफलता तंत्र को समझने का एक प्रयास” – 42वां ICMCTF सम्मेलन, 20 अप्रैल – 24 अप्रैल 2015, सैन डिएगो, अमेरिका।

“कैथोडिक आर्क निक्षेपित Ti-Al-N कोटिंग्स के यांत्रिक गुणों पर संरचना एवं वास्तुकला का प्रभाव” – 40वां ICMCTF सम्मेलन, 29 अप्रैल – 3 मई 2013, सैन डिएगो, अमेरिका।

“बेहतर घिसाव एवं संक्षारण प्रतिरोध के लिए नैनोसंरचित नाइट्राइड कोटिंग्स” – नैनोसाइंस एवं नैनोटेक्नोलॉजी पर अंतर्राष्ट्रीय सम्मेलन (ICONSAT 2012), 21 जनवरी – 23 जनवरी 2012, हैदराबाद, भारत।

“सौर तापीय अनुप्रयोगों के लिए C-CAPVD द्वारा निर्मित दुर्दम्य धातु नाइट्राइड कोटिंग्स का कार्यान्वयन” – नैनोसाइंस एवं प्रौद्योगिकी पर अंतर्राष्ट्रीय सम्मेलन 2012, 20 जनवरी – 23 जनवरी, हैदराबाद, भारत।

“स्पंदित घूर्णन बेलनाकार मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग द्वारा निर्मित टैंटलम पतली फिल्मों का अध्ययन” – सोसाइटी ऑफ वैक्यूम कोटर्स (SVC) का 50वां वार्षिक तकनीकी सम्मेलन, 28 अप्रैल – 3 मई 2007, लुइसविले, केंटकी, अमेरिका। “सर्वश्रेष्ठ पोस्टर पुरस्कार प्राप्त।”

“स्पंदित DC मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग द्वारा निक्षेपित टैंटलम पतली फिल्मों के यांत्रिक गुणों पर कण आकार का प्रभाव” – नैनोसंरचित सामग्रियों पर आठवां अंतर्राष्ट्रीय सम्मेलन, 20 अगस्त – 25 अगस्त 2006, IISc, बेंगलुरु, भारत।

“कठोर कोटिंग अनुप्रयोगों के लिए स्पंदित DC मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग द्वारा निक्षेपित टैंटलम पतली फिल्मों का अध्ययन: सब्सट्रेट तापमान का प्रभाव” – 15 मई – 17 मई 2006 के दौरान आयोजित 5वीं अंतर्राष्ट्रीय सतह इंजीनियरिंग कांग्रेस, सिएटल, वाशिंगटन, अमेरिका।

 “ईंधन सेल सेपरेटर के लिए टिकाऊ संक्षारण-प्रतिरोधी कोटिंग तथा इसकी निर्माण प्रक्रिया” – सुंदरराजन रामकृष्णन, नटराजन राजलक्ष्मी, कृष्णा वलेटी। भारतीय पेटेंट संख्या: 558766, दिनांक 27.01.2025 को प्रदान किया गया।

 “एक उन्नत सौर चयनात्मक बहु-स्तरीय कोटिंग तथा इसे जमा करने की विधि” – भारतीय पेटेंट संख्या: 303791, प्रदान किए जाने की तिथि: 30/11/2018।

 “उन्नत बेलनाकार मैग्नेट्रॉन कैथोड तथा उक्त कैथोड का उपयोग करके सतहों पर पतली फिल्में जमा करने की प्रक्रिया” – भारतीय पेटेंट संख्या: 320582, प्रदान किए जाने की तिथि: 16/09/2019।